離子輔助鍍膜技術(shù)（IAD）已被廣泛用來(lái)作為一種改善光學(xué)濾光片薄膜特性的工藝手段，多年的實(shí)踐研究結(jié)果表明：離子輔助鍍膜技術(shù)工藝對(duì)于改進(jìn)光學(xué)濾光片薄膜的性質(zhì)，改善濾光片薄膜的微結(jié)構(gòu)、濾光片應(yīng)力狀態(tài)與濾光片表面形貌具有良好效果，同時(shí)它還保持了真空熱蒸發(fā)技術(shù)能夠方便、迅速地制備各種濾光片薄膜的優(yōu)點(diǎn)。離子輔助鍍膜工藝的獨(dú)特技術(shù)是在高真空室中設(shè)置與蒸發(fā)源不發(fā)生相互影響的獨(dú)立離子源，用該源產(chǎn)生帶能離子束直接轟擊濾光片基片和生長(zhǎng)薄膜不僅可以顯著增強(qiáng)膜基與濾光片膜層間的結(jié)合，而且可以起到增加存儲(chǔ)密度，消除柱狀品，提高濾光片膜層的致密度的作用。同時(shí)可以改變?yōu)V光片薄膜的機(jī)械性能和濾光片光學(xué)特性，以及化學(xué)成分和結(jié)構(gòu)，從而凈化基片、提高鍍速和薄膜質(zhì)量。

離子輔助鍍膜技術(shù)示意圖