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光學(xué)濾光片目前越來越多的應(yīng)用在了各行各業(yè)里面,特別是我們經(jīng)常談?wù)摰降?,無人機(jī)應(yīng)用無人駕駛汽車5G物聯(lián)網(wǎng)等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)里面。但是很多人并不是那么的了解濾光片的生產(chǎn)制造中會(huì)使用到重要的真空鍍膜設(shè)備,而且更少的了解到,納宏的業(yè)務(wù)員在介紹我們生產(chǎn)的濾光片產(chǎn)品的時(shí)候,為什么鍍膜的時(shí)候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好?
真空鍍膜設(shè)備的離子源轟擊對(duì)濾光片的影響主要有以下幾個(gè)特征:
離子源鍍膜前轟擊:使濾光片基片表面因離子濺射剝離而再清潔和電活化,提高濾光片膜層在濾光片基片表面的凝集系數(shù)
離子源鍍膜后轟擊:提高濾光片膜層聚集密度,增進(jìn)化學(xué)反應(yīng),使氧化物膜層的折射率增加機(jī)械強(qiáng)度和抗激和附著力同時(shí)也可以提高濾光片對(duì)損傷閾值。
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光學(xué)濾光片工藝加工系列:
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